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经过7年的攻坚克难,我国又打破了一项海外的长期垄断,上海微电子28nm浸没式光刻机有望问世

发表日期:2020-10-14 11:31文章编辑:浏览次数: 标签:    

光刻机制造难度大、技能门槛高,严峻卡住了我国芯片工业的脖子,拖慢了国产芯片的脚步。为了打破这一窘境,现已表态将举全院之力,霸占光刻机难题。不过,想要打破并非一件易事。

通过7年的攻坚克难,我国又打破了一项海外的长时刻独占,上海微电子28nm浸没式光刻机有望面世

上世纪60、70年代,是国产光刻机开展的黄金时期,多所院校、科研机构都投身光刻机研发。惋惜的是,还没等国产光刻机赶上世界水平,我国光刻机研发便在“造不如买”思维影响下,逐步放置。

好在现在我国从头认识到了光刻机的重要性,将再次起步。而且,我国现已在光刻机部分技能上有所成果,能够更快起步。

作为我国第一个光学范畴研究所的长春光机所,前段时刻时刻传来好。通过7年的攻坚克难,在本年8月份,由其承当的国家严重科研仪器设备专项“1.5米扫描干与曝光”项目,成功检验。

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这表明,我国又打破了一项海外的长时刻独占,我国具有了独立制造米级单体无拼缝全息光栅才能,而且最大面积达到了650mm×1700mm,令人瞩目。

据悉,这项项目的成功打破,对我国高端光刻机、可控核聚变等多范畴的开展,具有非常重要的含义。我国在光刻机范畴的研发,得以更近一步。

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此前,长春光机所还完成了13.5nm波长极紫外光,成功建造EUV光刻曝光设备,含义也非常严重。

此外,在光刻机双工件台技能上,我国也有杰出体现。成立于2012年的华卓精科,通过多年尽力,总算成为继ASML之后,全球第二家把握光刻机双工件台技能的企业,打破了海外长时刻以来的独占,也打破了外国人对我国的成见。

通过7年的攻坚克难,我国又打破了一项海外的长时刻独占,上海微电子28nm浸没式光刻机有望面世

华卓精科创始人清华大学教授朱煜,在2006年时,他便带领团队参加了“02专项”其研发的α样机,成功获得了检验。这也是“02专项”光刻机项目中,第一个通过检验,令人瞩目。

在华卓精科的助力下,作为我国仅有光刻机巨子的上海微电子也得以迅速开展。2021年,上海微电子28nm浸没式光刻机有望面世,其所选用的光刻机双工件台,就是来自于华卓精科。

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在很多企业、科研机构的共同尽力下,未来我国企业将有望造出我国最先进的光刻机,由此,我国芯片工业也将少一大短板,然后终究完成自主、可控。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机意思是用光来制造一个图形;在硅片外表匀胶,然后将掩模版上的图形搬运光刻胶上的进程将器材或电路结构暂时“仿制”到硅片上的进程。

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日期:2020-10-14 浏览次数:29